一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统

本发明提供一种用于冷却介质以及半导体激光器的制冷方法及系统，所述冷却介质用于为半导体激光器制冷，所述方法包括：预先将制冷物质注入储气装置，将冷却介质注入储液装置；将所述储气装置中的制冷物质导入所述储液装置中，利用制冷物质的相变潜热，将所述冷却介质进行冷却。基于本发明提供的用于冷却介质及半导体激光器的制冷方法及系统，能够有效地提高制冷效率，无需电力驱动，节省能源，并且结构紧凑、重量轻、体积小，具有较高的可靠性。