专利类型:
相变材料专利导航
公开(公告)号:
CN112794293A
申请日:
2020-12-24
申请局:
CN
摘要:
本发明公开了一种半导体储存器用GeAsSeTe粉体的制备方法,属于相变材料领域。本发明所述GeAsSeTe粉体的制备方法中,通过先将Ge、As、Se、Te四种元素按两两元素混合制备成三种二元合金,不仅减少了后续粉体产品对设备的高要求,同时解决了Se和Te的易挥发及与其他两种元素合金化不均的问题;所述GeAsSeTe粉体的制备过程温度较低,避免了元素的挥发而造成合金的组分配比不均匀,所得产品合金化程度高且含氧量低,满足工业生产要求;所述制备方法无需真空密闭环境,反应过程简单且反应容器可重复使用,经济成本低。本发明还公开了提供所述半导体储存器用GeAsSeTe粉体的制备方法制备得到的GeAsSeTe粉体及其进一步制备的GeAsSeTe靶材,该材料具有致密度高、组分均匀且含氧量低等优点。
原始专利权人:
先导薄膜材料(广东)有限公司
当前专利权人:
先导薄膜材料(广东)有限公司