一种高稳定性相变存储单元及其制备方法

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN112133825A
申请日: 
2020-09-03
申请局: 
CN
摘要: 
本发明涉及一种高稳定性相变存储单元及其制备方法,包括基底层、电极材料、介质隔离材料,相变材料区以及所述相变材料与所述介质隔离材料之间的过渡层材料。本发明所形成的相变存储单元可以抑制相变材料晶粒的长大,提升相变存储器的热稳定性,有效抑制相变材料中各元素的扩散和挥发,减小电阻漂移系数,降低了器件功耗。
原始专利权人: 
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
当前专利权人: 
中国科学院上海微系统与信息技术研究所