一种多级相变V2O5薄膜材料及其制备方法和应用

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN109935687A
申请日: 
2019-02-27
申请局: 
CN
摘要: 
本发明涉及一种多级相变V2O5薄膜材料及其制备方法和应用。利用反应沉积法在磁控溅射的过程中发生钒与O2的反应并沉积于衬底,通过控制Ar气与O2气流量及溅射气压,生成V2O5,而不是钒的其他氧化物。所制得的V2O5薄膜在200~300nm厚度下的可逆相变过程中均出现非晶态、中间态和晶态三个不同相,呈现出3个不同电阻值,相较于传统的两态存储,本发明的多级相变V2O5薄膜材料具有更高的存储密度;且本发明的多级相变V2O5薄膜材料具有较快的相变速度,其10年数据保持温度达到200℃,远大于传统Ge2Sb2Te5材料的85℃,具有较好的热稳定性。本发明的多级相变V2O5薄膜材料具有较高的产业应用价值。
原始专利权人: 
江苏理工学院
当前专利权人: 
江苏理工学院