硫属元素化物溅射靶及其制备方法

专利类型: 
相变材料专利导航
公开(公告)号: 
CN109563613B
申请日: 
2017-08-08
申请局: 
CN
摘要: 
在一个实施方案中,物理气相沉积设备包括相变材料溅射靶,该相变材料溅射靶包括主基质和至少一个附加相。该主基质包含来自元素周期表的第VI族的除氧以外的至少一种元素和来自元素周期表的第IV族或第V族的一种或多种元素。该附加相基本上均匀地分散在主基质中。
原始专利权人: 
霍尼韦尔国际公司
当前专利权人: 
霍尼韦尔国际公司