专利类型: 相变材料专利导航公开(公告)号: CN109563613B申请日: 2017-08-08申请局: CN摘要: 在一个实施方案中,物理气相沉积设备包括相变材料溅射靶,该相变材料溅射靶包括主基质和至少一个附加相。该主基质包含来自元素周期表的第VI族的除氧以外的至少一种元素和来自元素周期表的第IV族或第V族的一种或多种元素。该附加相基本上均匀地分散在主基质中。原始专利权人: 霍尼韦尔国际公司当前专利权人: 霍尼韦尔国际公司